Корпорация Intel разместила первый в отрасли заказ на покупку крупносерийной производственной системы для полупроводниковой литографии ASML TWINSCAN EXE:5200. Система еще находится на стадии разработки. Соглашение между двумя компаниями было достигнуто в рамках долгосрочной программы сотрудничества.
Новая система TWINSCAN EXE:5200 будет применять технологию полупроводниковой литографии методом воздействия экстремального (сверхжесткого) ультрафиолетового излучения (EUV) с высоким значением числовой апертуры (High-NA).
В настоящее время технология EUV уже массово применяется компаниями TSMC, Samsung и Intel в производства микросхем для новейших компьютеров и смартфонов. Для печати используются литографические машины ASML EUV. Находящаяся в разработке новая версия машины EUV носит название High NA. Ее использование позволит производителям выпускать микросхемы с более сложной топологией и системой питания следующего поколения.
Числовая апертура в сочетании с используемой в оптике станка длиной волны определяет наименьший печатный элемент, который позволяет выпустить станок. Производительность системы ASML TWINSCAN EXE:5200 оценивается более чем в 200 пластин в час.
Еще в июле прошлого года Intel объявила на мероприятии Accelerated, что планирует стать первой среди производителей микросхем, кто внедрит технологию High-NA. Это следует из ее планов реализации дорожной карты инноваций в области транзисторов.
В 2018 году компания Intel стала первой, кто приобрел нынешнюю систему TWINSCAN EXE:5000. Новое объявление о покупке системы EXE:5200 связывают с намерением Intel начать производство микросхем с высокой числовой апертурой EUV уже с 2025 года.
Платформа EXE представляет собой эволюционный шаг в развитии технологии EUV. Она включает в себя новый дизайн оптики и обеспечивает значительное сокращение продолжительности производственных этапов по формированию полупроводниковой сетки и выпуску пластины.
Системы TWINSCAN EXE:5000 и TWINSCAN EXE:5200 имеют числовую апертуру 0,55. Это отражает рост точности при полупроводниковой печати по сравнению с машинами EUV предыдущего уровня, где используются линзы с числовой апертурой 0,33. Переход на новые нормы позволит существенно повысить разрешение формирования шаблонов и даст возможность печатать более мелкие элементы транзисторов.
Ранее редакция THG.ru опубликовала обзор лучших процессоров для игр. Выбрать лучший процессор для игр непросто – для кого-то лучшим может быть самый доступный процессор, для других – самый производительный. Мы стараемся учитывать все факторы и публикуем регулярно обновляемый материал, в котором стараемся рекомендовать действительно лучший процессор для игр в любой ценовой категории – от $100 до топового сегмента. Подробнее об этом читайте в статье “Лучший процессор для игр: текущий анализ рынка”.
